光刻模组
双面对准紫外光刻机 SUSS MA6-BA6-Gen4.pdf
纳米压印机(气压式) PL-T-100.pdf
匀胶机 WS-650.pdf
加热台 EMS 1000-3.pdf
材料沉积、生长和处理模组
电子束蒸发系统 DZS-500.pdf
磁控溅射&热蒸发镀膜系统 SVAC-FilmLab.pdf
原子层沉积系统 TFS-200.pdf
快速退火炉 LRTP-1200.pdf
微电子打印机 MP1100A.pdf
干法和湿法刻蚀模组
感应耦合等离子体刻蚀系统 SI 500.pdf
反应离子刻蚀系统 PlasmaPro 80.pdf
等离子清洗机 PT-15ST.pdf
表征测试模组
高精度探针台 SH-6.pdf
半导体参数分析仪 FS-Pro.pdf
台阶膜厚仪 KLA Tencor P-7.pdf
显微镜 Nikon.pdf
手套箱及气体净化系统 SG2400 750T.pdf
双光路双头皮秒激光裂片系统 KY-C-Pscut30R-A102.pdf