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光刻模组

双面对准紫外光刻机  SUSS MA6-BA6-Gen4.pdf

纳米压印机(气压式) PL-T-100.pdf

匀胶机  WS-650.pdf

加热台 EMS 1000-3.pdf

材料沉积、生长和处理模组

电子束蒸发系统  DZS-500.pdf

磁控溅射&热蒸发镀膜系统  SVAC-FilmLab.pdf

原子层沉积系统  TFS-200.pdf

快速退火炉  LRTP-1200.pdf

微电子打印机   MP1100A.pdf

干法和湿法刻蚀模组

感应耦合等离子体刻蚀系统  SI 500.pdf

反应离子刻蚀系统  PlasmaPro 80.pdf

等离子清洗机  PT-15ST.pdf

表征测试模组

高精度探针台  SH-6.pdf

半导体参数分析仪  FS-Pro.pdf

台阶膜厚仪 KLA Tencor P-7.pdf

显微镜  Nikon.pdf

手套箱及气体净化系统  SG2400 750T.pdf

双光路双头皮秒激光裂片系统 KY-C-Pscut30R-A102.pdf



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