关于“等离子增强化学气相淀积系统（PECVD）”正式投入运行的通知

       为提升用户的科研能力，我平台新增一台仪器设备 ——“等离子增强化学气相淀积系统（PECVD）”。 该仪器利用射频使含有薄膜组成原子的气体电离，在局部形成等离子体，等离子体促进气体系列化学反应，在样品表面形成固态薄膜。主要用于SiOx，SiNx等绝缘层低温条件下的薄膜生长。近日，平台已完成该设备的安装、调试和技术培训工作，设备已正式投入运行，欢迎广大师生前来开展相关实验。